确定所施加(Apply)特性：波粒的辐射强度（strength)的方法(method)
a.由周向磁化标准、纵向磁化标准给出的公式计算所需施加(Apply)的磁化电流(Electron flow)值及安匝数。
b.用标准(biāo zhǔn)试片估计法估计所施加(Apply)的特性：波粒的辐射强度（strength)的大小。胶片烘干箱主要用于相关半导体器件、印刷电路板、电子元器件、液晶玻璃基片 、光学胶片及镜片、石英振动器等电子元件及其他食品在低温低湿中的储存。磁粉标准试片一种硬磁性的单畴颗粒。它与粘合剂、溶剂等制成磁浆，涂布在塑料或金属片基（支持体）的表面，就可制成磁带、磁盘、磁性卡片等磁记录材料。磁粉是磁性涂料的核心组成，是决定磁记录介质磁特性的主要因素。磁粉对磁记录材料的性质影响极大。
c.由毫特斯拉计测定(Assessment)所施加(Apply)的特性：波粒的辐射强度（strength)的大小。磁粉探伤机是利用铁磁性材料被磁化后，由于不连续的存在，使工件表面和近表面的磁力线发生局部畸变而产生漏磁场（即磁感应线离开和进入表面时形成的磁场）吸附施加在工件表面的磁粉，形成在合适光照下目视可见的磁痕，从而显示出不连续性的位置、形状和大小。 射线胶片是为X射线照相而设计的照相胶片。大致分为直接摄影用(增感屏型和无增感屏型)和间接摄影用胶片两类。 磁粉标准试片一种硬磁性的单畴颗粒。它与粘合剂、溶剂等制成磁浆，涂布在塑料或金属片基（支持体）的表面，就可制成磁带、磁盘、磁性卡片等磁记录材料。磁粉是磁性涂料的核心组成，是决定磁记录介质磁特性的主要因素。磁粉对磁记录材料的性质影响极大。
2.周向磁化标准
a.直接通电法、正中心导体法、偏置中心导体法周向磁化标准推荐如下: ⅰ连续（Continuity)法 I=12-20D(检验高磁导率制件的开口性缺陷(defect)) I=20-32D(检验高磁导率制件的夹杂物等非开口性缺陷(defect)及低磁导率制件的开口 性缺陷(defect)) I=30-40D(检验较低磁导率制件的夹杂物等非开口性缺陷(defect)) ⅱ剩磁法: I=30-45D(检验矫顽力HC≥1kA/m,剩磁Br≥0.8T材料(Material)的开口性缺陷) 式中:Ｉ——磁化电流(Electron flow),Ｄ——制件直径,mm;对非圆柱形制件D=周长/π;偏置中心导体法制件直径应为中心导 体的直径加两倍制件壁厚
b.触头法周向磁化: 连续（Continuity)法:I=3.5-4.5L(板厚δ＜19mm) I=4.0-5.0L(板厚δ≥19mm) 式中I——磁化电流(Electron flow),ＡＬ——两触头间距,mm(推荐触头间距为150-200mm) c.环形件电缆（Cable)法磁化标准 按2.4.2a计算,但要求用安匝数IN代替I(N为穿过制件空腔的软电缆（Cable)匝数)